レジストインク組成物、それを用いたレジスト膜及びプリント回路基板

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：安藤惇逸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-067456
公開番号（公開出願番号）：特開平6-258830
出願日： 1993年03月02日
公開日（公表日）： 1994年09月16日
要約：

【要約】【構成】 A.(a)下記の一般式〔I〕【化1】(式中、R1 は水素又はメチル基、R2 は水素又はアルキル基であり、nは1〜4の整数である)で表されるエチレン性不飽和単量体及び/又はグリセロールモノ(メタ)アクリレート5〜50重量%、(b)グリシジル(メタ)アクリレート10〜90重量%及び(c)これらと共重合可能な他のエチレン性不飽和単量体0〜80重量%を重合させて得られる共重合体に、該共重合体の1エポキシ当量当たり0.7〜1.2化学当量の(メタ)アクリル酸、及び飽和若しくは不飽和の多塩基酸無水物を反応させて得られる紫外線硬化性樹脂、B.光重合開始剤、C.希釈剤及びD.熱硬化性エポキシ化合物を含有してなる、希アルカリ水溶液で現像可能なレジストインク脂組成物。【効果】低露光量においてもパターン形成が可能で、解像性及び耐溶剤性に優れ、さらに組成物自体の分散安定性に優れ、高性能のレジスト膜及びプリント回路基板を製造することができる。

請求項（抜粋）：

A.(a)下記の一般式〔I〕【化1】(式中、R1 は水素又はメチル基、R2 は水素又はアルキル基であり、nは1〜4の整数である)で表されるエチレン性不飽和単量体及び/又はグリセロールモノ(メタ)アクリレート5〜50重量%、(b)グリシジル(メタ)アクリレート10〜90重量%及び(c)これらと共重合可能な他のエチレン性不飽和単量体0〜80重量%を重合させて得られる共重合体に、該共重合体の1エポキシ当量当たり0.7〜1.2化学当量の(メタ)アクリル酸、及び飽和若しくは不飽和の多塩基酸無水物を反応させて得られる紫外線硬化性樹脂、B.光重合開始剤、C.希釈剤及びD.熱硬化性エポキシ化合物を含有してなる、希アルカリ水溶液で現像可能なレジストインク組成物。

IPC (13件)：

G03F 7/027 515 , G03F 7/027 502 , C08F 2/50 MDN , C08F299/00 MRN , C08F299/02 MRS , C09D 11/00 PTE , C09D 11/00 PTV , G03F 7/004 503 , G03F 7/028 , G03F 7/032 501 , G03F 7/038 501 , H01L 21/027 , H05K 3/00

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開平3-289656
特開昭60-119546
特開平4-180065

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