特許
J-GLOBAL ID:200903098926775257

材料のプラズマ利用反応性堆積方法の使用

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 深見 久郎 (外5名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-615426
公開番号(公開出願番号):特表2002-543293
出願日: 2000年04月11日
公開日(公表日): 2002年12月17日
要約:
【要約】加工物を、プラズマジェット(1)のプラズマ密度の最も高い領域に対してずらされた加工物ホルダ装置(24)に配置し、さらに少なくとも400nm/分の堆積速度および最高550°Cの温度で反応性被覆させる。
請求項(抜粋):
少なくとも400nm/分の材料堆積速度および最高550°Cの堆積表面の温度のために、プラズマジェットを真空排気室内で発生させ、かつ、該ジェット軸に沿ったプラズマ密度が最も高い領域に対して半径方向にずらして加工物を配置し、この場合、新鮮な反応性ガスを該排気室中に導入しかつ使用されたガスを該排気室から吸引する、加工物の反応性処理方法の使用。
IPC (2件):
C23C 16/513 ,  B01J 19/08
FI (2件):
C23C 16/513 ,  B01J 19/08 H
Fターム (27件):
4G075AA24 ,  4G075AA61 ,  4G075AA62 ,  4G075AA63 ,  4G075BA05 ,  4G075BB02 ,  4G075BC04 ,  4G075BD14 ,  4G075CA02 ,  4G075CA17 ,  4G075CA42 ,  4G075CA47 ,  4G075CA57 ,  4G075CA62 ,  4G075EC21 ,  4K030AA06 ,  4K030BA29 ,  4K030BA30 ,  4K030BB04 ,  4K030CA04 ,  4K030CA06 ,  4K030FA01 ,  4K030GA01 ,  4K030HA06 ,  4K030JA03 ,  4K030JA09 ,  4K030KA20
引用特許:
審査官引用 (1件)

前のページに戻る