特許

J-GLOBAL ID：200903098930154089

パターン補正装置、方法、パターン補正を行うためのコンピュータプログラム、および、そのようなプログラムを記録した記録媒体

発明者： 小野 祐作
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 青山 葆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-050146
公開番号（公開出願番号）：特開2002-250999
出願日： 2001年02月26日
公開日（公表日）： 2002年09月06日
要約：

【要約】【課題】 段差の有無にかかわらずレイアウトパターンに対する補正抜けをなくし、より高精度な光近接効果補正(OPC)を実現する。【解決手段】 回路のレイアウトパターンに含まれる辺に、補正パターンを付加するパターン補正装置であって、レイアウトパターンを表すパターンデータを記憶する記憶部と、記憶部に記憶されたパターンデータに基づいて、レイアウトパターン内の3以上の複数の辺の各々から辺上の点を抽出し、抽出した点の位置関係に基づいて、複数の辺で画定されたレイアウトパターンの細さを表すパラメータを取得するパラメータ取得部と、パラメータ取得部で取得されたパラメータに基づいて複数の辺の1つに付加すべき補正パターンを生成し、レイアウトパターンに合成する補正処理部とを備えたパターン補正装置を提供する。

請求項（抜粋）：

回路のレイアウトパターンに含まれる辺に、補正パターンを付加するパターン補正装置であって、前記レイアウトパターンを表すパターンデータを記憶する記憶部と、記憶部に記憶された前記パターンデータに基づいて、レイアウトパターン内の3以上の複数の辺の各々から辺上の点を抽出し、抽出した点の位置関係に基づいて、前記複数の辺で画定されたレイアウトパターンの細さを表すパラメータを取得するパラメータ取得部と、パラメータ取得部で取得された前記パラメータに基づいて前記複数の辺の1つに付加すべき補正パターンを生成し、前記レイアウトパターンに合成する補正処理部とを備えた、パターン補正装置。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  G06F 17/50 658

FI (2件)：

G03F 1/08 A ,  G06F 17/50 658 M

Fターム (9件)：

2H095BB02 ,  2H095BB36 ,  5B046AA08 ,  5B046BA05 ,  5B046BA06 ,  5B046CA04 ,  5B046DA05 ,  5B046EA01 ,  5B046GA01