特許

J-GLOBAL ID：200903098936193620

低次酸化チタン含有粉体の製造方法

発明者： 塩 庄一郎 ,  鈴木 福二
出願人/特許権者： 株式会社資生堂
代理人 (1件)： 岩橋 祐司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-017904
公開番号（公開出願番号）：特開平6-321540
出願日： 1994年01月18日
公開日（公表日）： 1994年11月22日
要約：

【要約】【構成】 二酸化チタンと共に、還元剤としてアンモニア吸着物質を共存させ、低酸素濃度雰囲気下で還元焼成することを特徴とする低次酸化チタン含有粉体の製造方法。【効果】 効率よく、しかも還元剤と粉末との溶融による凝集を生じることなく、低次酸化チタン含有粉体を製造することができる。

請求項（抜粋）：

二酸化チタンと共に、アンモニア吸着物質を共存させ、低酸素濃度雰囲気下で還元焼成することを特徴とする低次酸化チタン含有粉体の製造方法。

IPC (5件)：

C01G 23/04 ,  C01B 31/36 ,  C09C 1/36 PAT ,  C09C 1/36 PAV ,  C09D 17/00