特許
J-GLOBAL ID：200903098936738163
ブラックマトリックス基板およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石川 泰男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-176990
公開番号（公開出願番号）：特開平5-241016
出願日： 1992年07月03日
公開日（公表日）： 1993年09月21日
要約：
【要約】【目的】 液晶ディスプレイ等のフラットディスプレイ、CCD等のイメージャー、あるいはカラーセンサ等のカラーフィルタに用いることのできる寸法精度が高く遮光性に優れたブラックマトリックス基板、および、そのようなブラックマトリックス基板を低コストで製造することのできる製造方法を提供する。【構成】 透明基板上に形成する感光性レジスト層に無電解メッキ時にメッキの抑制効果のあるジアゾ基又はアジド基を有する化合物を含有させるとともに、無電解メッキ液の浸透を十分なものとするための親水性樹脂と、無電解メッキの触媒となる化合物とを含有させ、この感光性レジスト層をブラックマトリックス用のパターンを用いて露光し、無電解メッキ液と接触させることにより露光部分のみに無電解メッキの金属粒子を析出させて遮光層とする。
請求項（抜粋）：
透明基板と、該透明基板上に形成された内部に金属粒子を含有する遮光層とを有することを特徴とするブラックマトリックス基板。
IPC (2件)：
G02B 5/20 101
, G02F 1/1335 505
