特許
J-GLOBAL ID：200903098960001449
半導体露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 光男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-274983
公開番号（公開出願番号）：特開平7-106242
出願日： 1993年10月06日
公開日（公表日）： 1995年04月21日
要約：
【要約】【目的】 簡単な構造で確実にダミーショット領域からのレジストあるいはパターン剥離に基づくダスト発生を防止する。【構成】 全面にフォトレジストを塗布したウエハ9に対し、ステップアンドリピート方式で半導体集積回路パターンを露光する縮小投影型露光装置において、上記ウエハ周辺部の不完全ショット領域への露光光を遮光する可動式遮光板12,13を具備した縮小投影型半導体露光装置。
請求項（抜粋）：
全面にフォトレジストを塗布したウエハに対し、ステップアンドリピート方式で半導体集積回路パターンを露光する縮小投影型露光装置において、上記ウエハ周辺部の不完全ショット領域への露光光を遮光する可動式遮光板を具備することを特徴とする縮小投影型半導体露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
