特許

J-GLOBAL ID：200903098969426280

ポジ型レジスト組成物

発明者： 神田 博美 ,  水谷 一良
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-182848
公開番号（公開出願番号）：特開2005-017729
出願日： 2003年06月26日
公開日（公表日）： 2005年01月20日
要約：

【課題】250nm以下、特にF2エキシマレーザー光(157nm)の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には157nmの光源使用時に十分な透過性を示し、且つ溶剤溶解性、ストリエーションの発生、塗布均一性、ラインエッジラフネス、溶解コントラスト等の諸性能が改良されたポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】特定の酸の作用により分解してアルカリ現像液への溶解性を増大させる基を有し、フッ素原子を含有する樹脂(A)及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

一般式(Z1)又は一般式(Z2)のいずれかで表される、酸の作用により分解してアルカリ現像液への溶解性を増大させる基(a)を有し、フッ素原子を含有する樹脂(A)及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (2件)：

G03F7/039 ,  H01L21/027

FI (2件)：

G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

Fターム (18件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AA18 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025FA17