特許

J-GLOBAL ID：200903098978108720

化学増幅型レジスト用感光性ポリマ-とこれを含む化学増幅型レジスト化合物

発明者： 崔 相 俊
出願人/特許権者： 三星電子株式会社
代理人 (1件)： 八田 幹雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-307677
公開番号（公開出願番号）：特開2000-136219
出願日： 1999年10月28日
公開日（公表日）： 2000年05月16日
要約：

【要約】【課題】 露光前後の現像液に対する溶解度差が著しく、レジストのコントラストに優れた化学増幅型感光性ポリマー及びレジスト組成物を提供する。【解決手段】 式:【化1】(式中、R1、R3及びR5は各々-H及び-CH3よりなる群から選択され、R2はt-ブチル、テトラヒドロピラニル及び1-アルコキシエチル基よりなる群から選択され、R4は-H、-CH3、t-ブチル、テトラヒドロピラニル及び1-アルコキシエチル基よりなる群から選択され、xは1〜4の整数で、l/(l+m+n)は0.1〜0.5で、m/(l+m+n)は0.01〜0.5で、(l+m)/(l+m+n)は0.1〜0.7である。)で示される化学増幅型レジスト用いるポリマー、およびこれを含む化学増幅型レジスト組成物である。

請求項（抜粋）：

式:【化1】(式中、R1、R3及びR5は各々-Hまたは-CH3であり、R2はt-ブチル、テトラヒドロピラニル及び1-アルコキシエチル基よりなる群から選択され、R4は-H、-CH3、t-ブチル、テトラヒドロピラニル及び1-アルコキシエチル基よりなる群から選択され、xは1〜4の整数で、l/(l+m+n)は0.1〜0.5で、m/(l+m+n)は0.01〜0.5で、(l+m)/(l+m+n)は0.1〜0.7である。)で示される化学増幅型レジスト用感光性ポリマー。

IPC (7件)：

C08F220/28 ,  C08F 8/12 ,  C08L 33/00 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (7件)：

C08F220/28 ,  C08F 8/12 ,  C08L 33/00 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R