特許
J-GLOBAL ID:200903098985591399

レ-ザ熱プリントシステム及びレ-ザ熱プリンタのスポットの均一性を制御する方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 青山 葆 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-315102
公開番号(公開出願番号):特開2000-141724
出願日: 1999年11月05日
公開日(公表日): 2000年05月23日
要約:
【要約】【課題】 レーザ熱プリンタにおけるプリント又はレーザスポットを滑らかにするための、また、プリントヘッドの開口数を増やすことなく、プリントスポットの配列における間隙を補間するための低コストの手段を備えたレーザ熱プリントシステムを提供する。【解決手段】 媒体平面に位置決めされた媒体上に並列したレーザスポットによる第1のアレイを供給する光源と、上記光源と媒体平面との間に配置され、レーザスポットによる第2のアレイを生成すべく、上記レーザスポットによる第1のアレイの各画像を分割する複屈折デバイスとを設ける。
請求項(抜粋):
媒体平面に位置決めされた媒体上に並列したレーザスポットによる第1のアレイを供給する光源と、上記光源と媒体平面との間に配置され、レーザスポットによる第2のアレイを生成すべく、上記レーザスポットによる第1のアレイの各画像を分割する複屈折デバイスとを有していることを特徴とするレーザ熱プリントシステム。
IPC (3件):
B41J 2/32 ,  B41J 2/44 ,  H04N 1/23 103
FI (3件):
B41J 3/20 109 A ,  H04N 1/23 103 B ,  B41J 3/00 M

前のページに戻る