特許
J-GLOBAL ID：200903099001811071
研磨用組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
恩田 博宣
, 恩田 誠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-289201
公開番号（公開出願番号）：特開2004-123879
出願日： 2002年10月01日
公開日（公表日）： 2004年04月22日
要約：
【課題】エロージョン量を低減することができる研磨用組成物を提供する。【解決手段】研磨用組成物には、(A)20g/リットルを超え、200g/リットル以下のヒュームドシリカ及び(B)5g/リットルを超え、25g/リットル以下であり、過ヨウ素酸及びその塩から選ばれる少なくとも一種が含有されている。さらに、(C)下記一般式(1)で示されるテトラアルキルアンモニウム塩、(D)エチレングリコール及びプロピレングリコールから選ばれる少なくとも一種及び(E)水が含有され、pHは1.8以上4.0未満である。そして、表面に凹部が形成された絶縁体層と、絶縁体層上に形成され、導体層を含むメタル層とを有し、メタル層を研磨する研磨工程に用いられように構成されている。【化1】(式中のR1は炭素数1〜4の炭化水素基を示し、Xは水酸基又はハロゲン原子を示す。)【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
表面に凹部が形成された絶縁体層と、絶縁体層上に形成され、導体層を含むメタル層とを有し、メタル層を研磨する研磨工程に用いられ、下記の(A)、(B)、(C)、(D)及び(E)の各成分を含有し、pHが1.8以上4.0未満であることを特徴とする研磨用組成物。
(A):20g/リットルを超え、200g/リットル以下のヒュームドシリカ
(B):5g/リットルを超え、25g/リットル以下の過ヨウ素酸及びその塩から選ばれる少なくとも一種
(C):下記一般式(1)で示されるテトラアルキルアンモニウム塩
IPC (3件)：
C09K3/14
, B24B37/00
, H01L21/304
C09K3/14 550D
, C09K3/14 550Z
, B24B37/00 H
, H01L21/304 622D
, H01L21/304 622X
3C058AA07
, 3C058AC04
, 3C058CB01
, 3C058CB03
, 3C058DA17
