特許
J-GLOBAL ID：200903099008154408
光近接効果補正マスクの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 詔男 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-214646
公開番号（公開出願番号）：特開2000-047365
出願日： 1998年07月29日
公開日（公表日）： 2000年02月18日
要約：
【要約】【課題】 スループットを低下させることなく高精度な光近接効果補正が可能な光近接効果補正マスクの製造方法を提供する。【解決手段】 光リソグラフィー工程で生じる光近接効果の補正量により決められたマスク電子ビーム描画時の露光量補正データを、マスクパターンデータに付加し、マスク電子ビーム描画の際に、露光量補正データに従って露光量を変化させてマスクを露光させる。
請求項（抜粋）：
光リソグラフィー工程で生じる光近接効果の補正量により決められたマスク電子ビーム描画時の露光量補正データを、マスクパターンデータに付加し、マスク電子ビーム描画の際に、露光量補正データに従って露光量を変化させてマスクを露光させることを特徴とする光近接効果補正マスクの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/08 B
, H01L 21/30 502 P
2H095BA03
, 2H095BB10
, 2H095BB32
