特許
J-GLOBAL ID：200903099015211549
スルホン酸エステル、それを使用して製造した放射線感応性混合物およびその使用
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 一雄 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-510420
公開番号（公開出願番号）：特表平8-506908
出願日： 1993年10月04日
公開日（公表日）： 1996年07月23日
要約：
【要約】本発明は、スルホン酸エステルおよびそれを使用して製造した、a)照射により強酸を形成する化合物、b)少なくとも1個の酸により分解し得るC-O-CまたはC-O-Si結合(ポジ型混合物用)を有する化合物または少なくとも酸により架橋し得る基(ネガ型混合物用)を有する化合物、およびc)水に不溶であるが、アルカリ水溶液に可溶であるか、または少なくとも湿潤し得るバインダーを含んでなり、化合物a)が、式[R1CR2(CF3)-O-SO2-]nR3またはR1[-CR2(CF3)-O-SO2-R3]mのスルホン酸エステルである、ポジ型またはネガ型の放射感応性混合物に関する。この混合物はDUV領域において著しく高い感度および優れた解像度を示す。この混合物が、露光および後加熱の間の保持期間中に変化しないことは特に有利である。
請求項（抜粋）：
下記を含んでなることを特徴とする、ポジ型またはネガ型の放射線感応性混合物。a)照射により強酸を形成する化合物、b)ポジ型混合物用には、酸により開裂し得るC-O-CまたはC-O-Si結合を少なくとも1個有する化合物、またはネガ型混合物用には、酸により架橋し得る基を少なくとも2個有する化合物、およびc)水に不溶であるが、アルカリ水溶液に可溶であるかまたは少なくとも膨潤し得るバインダー。 ここで、化合物a)は、式 [R1CR2(CF3)-O-SO2-]nR3 (I)または R1[-CR2(CF3)-O-SO2-R3]m (II)のスルホン酸エステルである。(式中、R1は、式Iの化合物では、単核または多核の、非縮合または縮合(C6〜C14)アリールまたは異原子として酸素、硫黄または窒素を含む(C4〜C11)ヘテロアリール基であり、式IIの化合物では、単核または多核の、非縮合または縮合(C6〜C14)芳香族または異原子として酸素、硫黄または窒素を含む(C4〜C12)複素環芳香族の2価または3価の基、または式-C6H4-X-C6H4-[式中、Xは酸素原子、カルボニルまたはスルホニル基または基CR7R8(式中、R7およびR8は、同一であるか、または異なるものであって、メチルまたはトリフルオロメチル基である)である]の2価の基であり、R2は水素原子またはメチル、トリフルオロメチルまたはシアノ基であり、R3は、n=1である式Iの化合物および式IIの化合物では、直鎖または分枝鎖の、非置換または置換(C1〜C18)アルキル基、(C4〜C10)シクロアルキル基、(C2〜C6)アルケニル基、非置換または置換(C6〜C14)アリールまたは異原子として酸素、硫黄または窒素を含む(C4〜C12)ヘテロアリール基または(C7〜C18)アラルキル基であり、n=2または3である式Iの化合物では、直鎖または分枝鎖の、非置換または置換(C1〜C18)アルカンまたはシクロアルカンの、単核または多核(C6〜C14)芳香族の、または異原子として酸素、硫黄または窒素を含む(C4〜C12)複素環芳香族の、2価または3価の基であり、nは1〜3の整数であり、mは2または3である。)
IPC (2件)：
G03F 7/004 503
, G03F 7/039
