特許
J-GLOBAL ID:200903099054919699

欠陥検出方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 中川 國男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-117836
公開番号(公開出願番号):特開2002-314982
出願日: 2001年04月17日
公開日(公表日): 2002年10月25日
要約:
【要約】【課題】 パターンの違い部分や、部分的な濃淡部分の存在のもとでも、欠陥を正確に認識できるようにする。【解決手段】 ターゲット画像F中の欠陥をターゲット画像Fとマスター画像Gと比較しながら検出する画像処理手法による欠陥検出方法であって、マスター画像Gとターゲット画像Fとの全ての対応画素において、小領域単位での正規化相関マッチングを行って、マッチング平面Mにマッチング率を描き込み、このマッチング平面Mからマッチング率の低い小領域を抽出し、マッチング率の低い小領域の存在からターゲット画像F中の欠陥を見つける。
請求項(抜粋):
ターゲット画像中の欠陥をターゲット画像とマスター画像と比較しながら検出する画像処理手法において、マスター画像とターゲット画像との全ての対応画素において、小領域単位での正規化相関マッチングを行って、マッチング平面にマッチング率を描き込む過程と、マッチング平面からマッチング率の低い小領域を抽出し、マッチング率の低い小領域の存在からターゲット画像中の欠陥を見つける過程とからなることを特徴とする欠陥検出方法。
IPC (5件):
H04N 7/18 ,  G01N 21/88 ,  G01N 21/956 ,  G06T 1/00 305 ,  G06T 7/00 300
FI (6件):
H04N 7/18 B ,  H04N 7/18 K ,  G01N 21/88 J ,  G01N 21/956 B ,  G06T 1/00 305 A ,  G06T 7/00 300 E
Fターム (35件):
2G051AA51 ,  2G051AA65 ,  2G051AB02 ,  2G051AB03 ,  2G051AB04 ,  2G051AB11 ,  2G051AB14 ,  2G051CA04 ,  2G051EA12 ,  2G051EA14 ,  2G051EC07 ,  2G051ED01 ,  2G051ED08 ,  2G051ED11 ,  5B057AA03 ,  5B057BA11 ,  5B057CH01 ,  5B057CH11 ,  5B057DA03 ,  5B057DC33 ,  5B057DC34 ,  5C054AA01 ,  5C054FC01 ,  5C054FE14 ,  5C054GB12 ,  5C054HA01 ,  5L096BA03 ,  5L096CA04 ,  5L096DA02 ,  5L096EA17 ,  5L096EA45 ,  5L096FA34 ,  5L096GA08 ,  5L096HA07 ,  5L096JA09

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