特許
J-GLOBAL ID：200903099058306969
基板保管方法及びその装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-040937
公開番号（公開出願番号）：特開平5-243116
出願日： 1992年02月27日
公開日（公表日）： 1993年09月21日
要約：
【要約】【目的】パタンを転写するためのマスクの、マスクパタンの寸法精度,位置精度を高く保つ。【構成】所望のマスクパタンを転写するためのパタンを有する基板を、化学的に不活性な気体雰囲気、例えば、不活性ガスまたは窒素ガスを主成分とする気体雰囲気、あるいは真空雰囲気で保管する。【効果】マスクを構成する材料の性質を安定に保つことができ、高いマスク精度を長期間維持することができる。さらに、固体素子製造工程の歩留まりを上げ、生産性を向上することができる。
請求項（抜粋）：
所望のマスクパタンを転写するためのパタンを有する基板を、化学的に不活性な雰囲気で保管することを特徴とする基板保管方法。
IPC (2件)：
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