特許
J-GLOBAL ID：200903099075056100
投影露光方法及び装置
出願人/特許権者：
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-234609
公開番号（公開出願番号）：特開平7-094388
出願日： 1993年09月21日
公開日（公表日）： 1995年04月07日
要約：
【要約】【目的】 ステップ・アンド・スキャン方式で投影露光する際に、走査に伴ってレチクルの投影光学系に対する位置関係が変化しても、常に感光基板上に良好な像を露光する。【構成】 レチクルRの走査方向の位置の関数としてスリット状の照明領域1内でのレチクルRと投影光学系PLとの位置関係を計測して、メモリ17に記憶しておく。走査露光する際に、レチクルRの走査位置に応じて記憶されている関数から投影光学系PLによる像面の変位量を求め、その変化した像面にZレベリングステージ10を介してウエハWの露光面を合致させる。
請求項（抜粋）：
所定形状の照明領域に対して転写用のパターンが形成されたマスクを所定の方向に走査し、前記照明領域と所定の投影光学系に関して共役な露光領域に対して所定の方向に前記マスクに同期して感光基板を走査することにより、前記マスクのパターン像を逐次前記感光基板上に露光する方法において、予め前記照明領域内の前記マスクのパターン形成面と前記投影光学系との位置関係を計測し、該計測された位置関係を前記マスクの走査方向の位置の関数として記憶し、前記マスクのパターン像を逐次前記感光基板上に露光する際に、前記マスクの走査方向の位置に応じて前記記憶された関数に基づいて前記露光領域内での前記感光基板の露光面と前記投影光学系との位置関係を補正することを特徴とする投影露光方法。
IPC (2件)：
引用特許：
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