アパーチャマスク及びその製造方法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-224366
公開番号（公開出願番号）：特開平7-078748
出願日： 1993年09月09日
公開日（公表日）： 1995年03月20日
要約：

【要約】【目的】優れた寸法精度の電子ビームの成形用開口部分を持つ電子阻止能率の高いアパーチャマスクの製造方法を提供することにある。【構成】キャラクタ・プロジェクション方式の電子ビーム描画装置に用いられるアパーチャマスクの製造方法において、Si基板21の一主面上にSiO2 膜23を形成したのち、SiO2 膜23上に導電膜としてTi膜24,Pd膜25を形成し、次いで重金属薄膜の鋳型材料として電子線用レジスト26を形成し、レジスト26を露光するのに必要な照射量を多数回の露光に分けて照射し、かつ各回の描画において互いのビームショットの境界が重ならないように露光することにより鋳型27を形成し、次いで鋳型27内に所望の厚さだけAu膜を成長させ、次いで鋳型27を除去したのち基板21を裏面側からエッチングしてAu膜28に設けられた開口が貫通するようしたことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

キャラクタ・プロジェクション方式の荷電ビーム描画装置に用いられるものであり、複数種の所望パターン形状の開口が形成され、荷電粒子ビームの選択的な照射によりいずれかのパターン形状のビームを成形するアパーチャマスクにおいて、荷電粒子ビームを成形するために使用するビームの遮断阻止膜に重金属薄膜を用いたことを特徴とするアパーチャマスク。

FI (2件)：

H01L 21/30 541 B , H01L 21/30 541 R

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開昭53-144677
特開平4-240719
特開昭53-144677

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