特許

J-GLOBAL ID：200903099088237945

露光方法及びデバイス製造方法

発明者： 川久保 昌治
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 立石 篤司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-382982
公開番号（公開出願番号）：特開2003-188071
出願日： 2001年12月17日
公開日（公表日）： 2003年07月04日
要約：

【要約】【課題】 重ね合わせ精度を低下させることなく、スループットを向上させることができる露光方法を提供する。【解決手段】 先ず、基板上に形成された複数の区画領域に関する転写誤差の情報を得る(ステップ409)。そして、その転写誤差の情報に基づいて、複数の区画領域のうち、1回の露光でパターンを同時に転写すべき区画領域の目標数と、目標数の区画領域に重ねて転写すべきパターンの領域を決定する(ステップ414、434)。例えば、転写誤差が所定の閾値以下であれば、複数の区画領域に同時にパターンの転写が行なわれるように決定し、転写誤差が所定の閾値を超えていれば、1つの区画領域毎にパターンの転写が行なわれるように決定する。さらに、その決定に従ってパターンの転写を行なう(ステップ417、437)。

請求項（抜粋）：

所定のパターンを基板上に転写する露光方法であって、前記基板上に形成された複数の区画領域に関する転写誤差の情報を得る工程と;前記転写誤差の情報に基づいて、前記複数の区画領域のうち、1回の露光で前記パターンを同時に転写すべき区画領域の目標数と、前記パターンのうち、前記目標数の区画領域に重ねて転写すべきパターンの領域を決定する工程と;前記決定に従って転写を行なう工程と;を含む露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/22

FI (3件)：

G03F 7/22 H ,  H01L 21/30 525 W ,  H01L 21/30 521

Fターム (14件)：

5F046AA05 ,  5F046BA05 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC03 ,  5F046DA08 ,  5F046EB01 ,  5F046EB02 ,  5F046EB05 ,  5F046ED02 ,  5F046ED03 ,  5F046FA17 ,  5F046FC04 ,  5F046FC06