特許

J-GLOBAL ID：200903099096163365

洗浄方法

発明者： 村上 健 ,  岡庭 憲一郎
出願人/特許権者： コニカ株式会社
代理人 (1件)： 岩間 芳雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-027687
公開番号（公開出願番号）：特開2000-225382
出願日： 1999年02月04日
公開日（公表日）： 2000年08月15日
要約：

【要約】【目的】 金属部品、金型などに付着した有機汚染物を表面の状態を変えたり損傷することなく洗浄除去することができる洗浄方法を提供すること。【構成】 有機または無機の還元剤を洗浄成分として共存させた超臨界または亜臨界状態の水によって部材を洗浄することを特徴とする洗浄方法。

請求項（抜粋）：

有機または無機の還元剤を洗浄成分として共存させた超臨界または亜臨界状態の水によって部材を洗浄することを特徴とする洗浄方法。

IPC (6件)：

B08B 3/08 ,  B29C 33/72 ,  C11D 7/04 ,  C11D 7/32 ,  C23G 1/00 ,  B29L 11:00

FI (5件)：

B08B 3/08 Z ,  B29C 33/72 ,  C11D 7/04 ,  C11D 7/32 ,  C23G 1/00

Fターム (33件)：

3B201AA46 ,  3B201BB01 ,  3B201BB02 ,  3B201BB82 ,  3B201BB90 ,  4F202AA21 ,  4F202AA28 ,  4F202AH73 ,  4F202AJ07 ,  4F202AM13 ,  4F202CA30 ,  4F202CB01 ,  4F202CS04 ,  4H003BA02 ,  4H003DA09 ,  4H003DA12 ,  4H003DA16 ,  4H003DB03 ,  4H003DC01 ,  4H003EA07 ,  4H003EB14 ,  4H003ED02 ,  4H003EE02 ,  4H003FA15 ,  4K053PA03 ,  4K053PA07 ,  4K053PA09 ,  4K053QA07 ,  4K053RA07 ,  4K053RA51 ,  4K053RA52 ,  4K053RA69 ,  4K053SA06

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 金属溶液の処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-219247   出願人：株式会社荏原製作所

審査官引用 (1件)

• 金属溶液の処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-219247   出願人：株式会社荏原製作所