特許
J-GLOBAL ID:200903099096258129

赤外線エミッタおよびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 木村 進一 (外1名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-502369
公開番号(公開出願番号):特表平11-515133
出願日: 1996年09月06日
公開日(公表日): 1999年12月21日
要約:
【要約】薄層赤外線エミッタは、自由状態に垂下された電気伝導性ダイアモンド系炭素の薄膜、または、熱容量および熱拡散率共に低い基板上に電気伝導性ダイアモンド系炭素の蒸着層から成る。フィルムに電気を通じるとフィルムは熱せられ赤外線を放射する。フィルム表面のトポグラフィックミクロ組織が放射の強度、スペクトル特性、偏光状態に影響する。フィルムは基板上にガス相または蒸気相で蒸着により形成され、該基板には予め電極が埋設される。自己支持型薄膜による場合は、前記電極は基板が物理的または化学的方法により除去された後薄膜の支持具としての機能も果たす。
請求項(抜粋):
加熱により赤外線を放射するのに適した電気伝導性の、ガスまたは蒸気などの気相で形成されたフィルムからなる赤外線放射光源であって、該フィルムは少なくとも一つの組織(network)を含み、該少なくとも一つの組織はダイアモンド系炭素からなることを特徴とした赤外線放射光源。
IPC (3件):
H05B 3/10 ,  G01J 3/10 ,  G01N 21/01
FI (3件):
H05B 3/10 B ,  G01J 3/10 ,  G01N 21/01 D

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