特許

J-GLOBAL ID：200903099106794172

レジスト組成物及びそれを用いたパタン形成方法

発明者： 新井 唯 ,  逆水 登志夫 ,  村井 二三夫 ,  鈴木 康則
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  日立化成工業株式会社
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-338454
公開番号（公開出願番号）：特開平11-174669
出願日： 1997年12月09日
公開日（公表日）： 1999年07月02日
要約：

【要約】【課題】高感度,高解像度、かつ安定性のよいポジ型パタンをアルカリ水溶液で現像するレジスト組成物およびこれを用いたパタン形成方法を提供する。【解決手段】アルカリ可溶性樹脂,酸を触媒とする反応によりアルカリ水溶液可溶性を変化させる媒体,放射線照射により酸を発生する酸前駆体を少なくとも含む化学増幅系レジスト組成物において、一般式1で示されるアニオンサイトがアルキルスルホン酸またはアリールスルホン酸である有機塩を添加したレジスト組成物。【化1】(式中、R1 ,R2 ,R3 及びR4 は、炭素数1〜6のアルキル基または置換されたアルキル基であり、Y1-はアルキルスルホン酸またはアリールスルホン酸を表す)

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性樹脂,酸を触媒とする反応によりアルカリ水溶液に対する溶解性を増加させる反応性をもった媒体,放射線照射により酸を発生する酸前駆体を含む化学増幅系レジスト組成物であって、一般式1で示されるアニオンサイトがアルキルスルホン酸またはアリールスルホン酸であるような有機塩を含有することを特徴とするレジスト組成物。【化1】(式中、R1 ,R2 ,R3 及びR4 は、同じでも異なってもよく、炭素数1〜6のアルキル基または置換されたアルキル基であり、Y1-はアルキルスルホン酸,アリールスルホン酸のいずれかを表す)

IPC (3件)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R