特許
J-GLOBAL ID：200903099119002658
ネガ型レジスト組成物
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
則近 憲佑
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-054287
公開番号（公開出願番号）：特開平7-261393
出願日： 1994年03月25日
公開日（公表日）： 1995年10月13日
要約：
【要約】【構成】 化学増幅型レジストのパターン形成工程におけるパターン形成の露光により、塩基性物質を発生する物質と、露光後加熱工程において酸を発生する物質とを含む感光性組成物によって構成され、リソグラフィーにおけるレジストパターンの形成工程で用いられるネガ型レジスト組成物。【効果】 本発明によれば、微細で、かつ良好な形状を有する解像性の高いレジストパターンを形成できる。
請求項（抜粋）：
化学増幅型レジストのパターン形成工程におけるパターン形成の露光により塩基性物質を発生する物質と、露光後加熱工程において酸を発生する物質とを含むことを特徴とするネガ型レジスト組成物。
IPC (5件)：
G03F 7/038 505
, G03F 7/004 503
, G03F 7/028
, G03F 7/031
, H01L 21/027
