特許

J-GLOBAL ID：200903099119704580

電子線レジスト組成物

発明者： 宮部 将典 ,  小林 政一 ,  中山 寿昌
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (1件)： 阿形 明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-154128
公開番号（公開出願番号）：特開平5-323609
出願日： 1992年05月22日
公開日（公表日）： 1993年12月07日
要約：

【要約】【構成】 一般式【化1】(式中のn及びmは、0.6≦n/(m+n)≦0.9の関係を満たす数である)で表わされるアルカリ可溶性ラダーシリコン重合体と、アルコキシメチル化メラミン樹脂と、トリスジブロモプロピレンイソシアヌレートとを含有して成る電子線レジスト組成物である。【効果】 画像コントラスト及び断面形状に優れたレジストパターンを形成でき、有機アルカリ水溶液により現像可能で、スカムを生じない。特に半導体素子の製造分野における多層プロセス法の上層に好適に用いられる。

請求項（抜粋）：

(A)一般式【化1】(式中のn及びmは、0.6≦n/(m+n)≦0.9の関係を満たす数である)で表わされるアルカリ可溶性ラダーシリコーン重合体と、(B)アルコキシメチル化メラミン樹脂と、(C)トリスジブロモプロピレンイソシアヌレートとを含有して成る電子線レジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/038 505 ,  G03F 7/075 511 ,  G03F 7/26 511 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/30 301 R ,  H01L 21/30 361 S