特許

J-GLOBAL ID：200903099129591139

液晶表示素子用スペーサの製造方法、液晶表示素子用スペーサ及び液晶表示素子

発明者： 武智 昌裕 ,  伊藤 和志
出願人/特許権者： 積水化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-315409
公開番号（公開出願番号）：特開2001-147436
出願日： 1999年11月05日
公開日（公表日）： 2001年05月29日
要約：

【要約】【課題】 スペーサ表面の処理層を厚くすることにより、液晶表示素子に強い衝撃を与えても、液晶分子とスペーサ表面の親水性部分との不可逆的な化学吸着が生じることがなく、光抜けがなく、コントラストの低下や表示ムラが生じることがなく、かつ、乾式散布性の優れた液晶表示素子用スペーサ及びその製造方法、特に、STN、TN型TFT及びIPS型TFT液晶表示素子に適した液晶表示素子用スペーサの製造方法及び前記液晶表示素子用スペーサの製造方法により製造される液晶表示素子用スペーサ、並びに、前記液晶表示素子用スペーサを用いた液晶表示素子を提供する。【解決手段】 液晶表示素子用スペーサの製造方法であって、表面に還元性基を有する微粒子を得る工程、及び、得られた微粒子に、酸化剤を反応させて前記微粒子表面にラジカルを発生させ、これにアルキル基を有する重合性単量体を反応させて、前記微粒子の表面に0.01〜0.5μmの厚みのグラフト重合層を形成させる工程を有する液晶表示素子用スペーサの製造方法。

請求項（抜粋）：

液晶表示素子用スペーサの製造方法であって、表面に還元性基を有する微粒子を得る工程、及び、得られた微粒子に、酸化剤を反応させて前記微粒子表面にラジカルを発生させ、これにアルキル基を有する重合性単量体を反応させて、前記微粒子の表面に0.01〜0.5μmの厚みのグラフト重合層を形成させる工程を有することを特徴とする液晶表示素子用スペーサの製造方法。

IPC (2件)：

G02F 1/1339 500 ,  G09F 9/30 320

FI (2件)：

G02F 1/1339 500 ,  G09F 9/30 320

Fターム (25件)：

2H089LA07 ,  2H089LA19 ,  2H089LA20 ,  2H089NA25 ,  2H089QA03 ,  2H089QA05 ,  2H089RA05 ,  2H089RA10 ,  2H089TA09 ,  5C094AA03 ,  5C094AA36 ,  5C094AA43 ,  5C094BA43 ,  5C094CA19 ,  5C094EA04 ,  5C094EB02 ,  5C094EC03 ,  5C094FB01 ,  5C094FB02 ,  5C094FB15 ,  5C094GB01 ,  5C094GB10 ,  5C094JA01 ,  5C094JA08 ,  5C094JA20