特許
J-GLOBAL ID:200903099138183612
高分子電解質膜及びその製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
西川 繁明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-166353
公開番号(公開出願番号):特開2002-358978
出願日: 2001年06月01日
公開日(公表日): 2002年12月13日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 成膜性に優れ、イオン交換基容量が大きく、機械的強度と水の保持力に優れたスルホン化ポリイミドからなり、固体高分子型燃料電池のイオン交換膜として好適な高分子電解質膜とその製造方法を提供する。【解決手段】 (式中、Ar1は、少なくとも1つのスルホン酸基によって置換されている二価の有機基である。)で表わされる構造単位を含む重合体ブロック(A)と、一般式(II)(式中、Ar2は、スルホン酸基を持たない二価の有機基である。)で表わされる構造単位を含む重合体ブロック(B)とを5:95〜95:5のモル比(A:B)で含有するブロック共重合スルホン化ポリイミドから形成されている高分子電解質膜及びその製造方法。
請求項(抜粋):
下記式(I)【化1】(式中、Ar1は、少なくとも1つのスルホン酸基によって置換されている二価の有機基である。)で表わされる構造単位〔I〕を含む重合体ブロック(A)と、下記式(II)【化2】(式中、Ar2は、スルホン酸基を持たない二価の有機基である。)で表わされる構造単位〔II〕を含む重合体ブロック(B)とを5:95〜95:5のモル比(A:B)で含有するブロック共重合スルホン化ポリイミドから形成されている高分子電解質膜。
IPC (5件):
H01M 8/02
, C08G 73/10
, C08J 5/22 101
, H01M 8/10 ZAB
, C08L 79:08
FI (5件):
H01M 8/02 P
, C08G 73/10
, C08J 5/22 101
, H01M 8/10 ZAB
, C08L 79:08 Z
Fターム (45件):
4F071AA60
, 4F071AF15
, 4F071AF21
, 4F071AF36
, 4F071AF39
, 4F071AH12
, 4F071AH19
, 4F071BA02
, 4F071BB02
, 4F071BC01
, 4F071BC12
, 4F071BC17
, 4F071FA05
, 4F071FB01
, 4F071FC01
, 4J043PA09
, 4J043PC185
, 4J043PC186
, 4J043QB15
, 4J043QB26
, 4J043QB31
, 4J043RA02
, 4J043RA04
, 4J043RA35
, 4J043SA06
, 4J043SA47
, 4J043SA82
, 4J043SB03
, 4J043TA22
, 4J043TA71
, 4J043TB01
, 4J043UA131
, 4J043UA262
, 4J043UB121
, 4J043UB401
, 4J043VA041
, 4J043ZA41
, 4J043ZB14
, 5H026AA06
, 5H026BB08
, 5H026BB10
, 5H026CX05
, 5H026EE18
, 5H026HH00
, 5H026HH05
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