特許

J-GLOBAL ID：200903099147382148

走査型露光装置及び露光方法

発明者： 谷口 哲夫
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 川北 喜十郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-292091
公開番号（公開出願番号）：特開平9-115820
出願日： 1995年10月13日
公開日（公表日）： 1997年05月02日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 実際の走査型露光の前に、投影光学系の結像特性又はマスク(レチクル)のパターン像の結像状態を正確に予測できる機構を備えた走査型露光装置及び走査型露光方法を提供する。【解決手段】 ウエハステージWST上に受光部2を備える光電センサ4と、ウエハWとレチクルRとの同期走査により生じる同期誤差を検出する同期誤差検出手段13と、レチクルRのマークターンが照明領域内の走査方向の種々の位置に位置するときに光電センサ4によりそれぞれ検出された各走査方向位置に対応するマークパターンの像と同期誤差検出手段13から検出された同期誤差とから同期走査により得られるマークパターンの結像状態を演算する結像状態演算器14を備える。結像状態演算器14の演算結果からウエハWとレチクルRとの同期走査により得られるレチクルパターンの像の結像状態を予測する。

請求項（抜粋）：

マスク上の照明領域に対して該マスクを走査するマスクステージと、前記マスク上のパターンの像を感光基板上に投影する投影光学系と、前記照明領域と前記投影光学系に関して共役な露光領域に対して前記感光基板を前記マスクの走査と同期して走査する基板ステージとを備えた走査型露光装置において、前記マスク上のマークパターンの像を前記基板ステージ上で光電検出する光電検出手段と、前記感光基板と前記マスクとの同期走査により生じる同期誤差を検出する同期誤差検出手段と、前記マークパターンが前記照明領域内の走査方向の種々の位置に位置するときに前記光電検出手段によりそれぞれ検出された各走査方向位置に対応する前記マークパターンの像と、前記同期誤差検出手段から検出された同期誤差とから、同期走査により得られる前記マークパターン像の結像状態を演算する結像状態演算手段とを備え、前記結像状態演算手段の演算結果から前記感光基板と前記マスクとの同期走査により得られるマスクパターン像の結像状態が予測されることを特徴とする上記走査型露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 518 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 514 C