特許

J-GLOBAL ID：200903099148800555

ドライ洗浄方法及び装置

発明者： 吉田 隆司 ,  岩崎 元明
出願人/特許権者： 横河電機株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-334652
公開番号（公開出願番号）：特開2001-156033
出願日： 1999年11月25日
公開日（公表日）： 2001年06月08日
要約：

【要約】【課題】 円盤(ディスク)表面のパーティクル、有機物の効率的な除去が可能なドライ洗浄方法及び装置を提供する。【解決手段】 円盤の表面に付着した異物を除去する方法であって、円盤の表面に対してガスの吹き付け吸引を行ってパーティクルを除去するパーティクル除去装置と、円盤の表面に付着した有機物を酸化分解により除去する有機物除去装置からなり、これらの除去装置は同一チャンバ若しくは搬送システムにより結合されており、始めにパーティクルを除去し、次に有機物除去を行うようにした。

請求項（抜粋）：

円盤の表面に付着した異物を除去する方法であって、前記円盤の表面に対してガスの吹き付け吸引を行ってパーティクルを除去するパーティクル除去装置と、前記円盤の表面に付着した有機物を酸化分解により除去する有機物除去装置からなり、これらの除去装置は同一チャンバ若しくは搬送システムにより結合されており、始めにパーティクルを除去し、次に有機物除去を行うようにしたことを特徴とするドライ洗浄方法。

IPC (3件)：

H01L 21/304 645 ,  H01L 21/304 ,  B08B 5/00

FI (3件)：

H01L 21/304 645 Z ,  H01L 21/304 645 D ,  B08B 5/00 A

Fターム (7件)：

3B116AA03 ,  3B116AB34 ,  3B116BB22 ,  3B116BB72 ,  3B116BB75 ,  3B116BC01 ,  3B116CD11