特許
J-GLOBAL ID:200903099156217699
ポジ型レジスト組成物
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
阿形 明 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-248947
公開番号(公開出願番号):特開平5-204145
出願日: 1992年08月26日
公開日(公表日): 1993年08月13日
要約:
【要約】【構成】 (A)アルカリ可溶性ノボラック型樹脂と(B)キノンジアジド基含有化合物と(C)一般式【化1】(R1〜R12は水素原子、水酸基又はC1〜C4のアルキル基、R1〜R4、R5〜R8、R9〜R12の各グループは1個以上の水酸基と1個以上のtert-ブチル基をもつ)で表わされイソシアヌレート系化合物とを含有するポジ型レジスト組成物。【効果】 特に高感度で保存安定性に優れ、かつ残膜率、断面形状、解像性及び耐熱性に優れたレジストパターンを形成することができ、半導体デバイス製造分野において好適に用いられる。
請求項(抜粋):
(A)アルカリ可溶性ノボラック型樹脂と、(B)キノンジアジド基含有化合物と、(C)一般式【化1】(式中のR1ないしR12はそれぞれ水素原子、水酸基又は炭素数1〜4のアルキル基であり、それらはたがいに同一でも、異なっていてもよいが、R1ないしR4、R5ないしR8及びR9ないしR12の各グループにおいては、それぞれのグループ中に少なくとも1個の水酸基及び少なくとも1個のtert-ブチル基をもつ)で表わされるイソシアヌレート系化合物とを含有して成るポジ型レジスト組成物。
IPC (2件):
引用特許:
審査官引用 (4件)
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特開平4-296755
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特開平4-001651
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特開平4-271349
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ポジ型レジスト組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-101684
出願人:日本ゼオン株式会社
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