特許

J-GLOBAL ID：200903099181184770

N-チアゾリルスルホンアミド誘導体

発明者： 吉川 賢成 ,  齋藤 秀次 ,  大内 裕 ,  畑山 勝男
出願人/特許権者： 大正製薬株式会社
代理人 (1件)： 北川 富造
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-234416
公開番号（公開出願番号）：特開平5-070446
出願日： 1991年09月13日
公開日（公表日）： 1993年03月23日
要約：

【要約】【目的】 副作用が少なく、長期間投与に耐えうる安全性の高い抗炎症剤を提供する。【構成】【化6】(化6中、R1はハロゲン原子で置換された低級アルキル基であり、R2は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、低級アルコキシカルボニル基、カルボキシル基、ベンジル基、ベンゾイル基、フェニルチオ基、ナフチル基またはピリジル基であり、R3はフェニル基、低級アルコキシ基で置換されたフェニル基またはビフェニル基である。)で表されるN-チアゾリルスルホンアミド誘導体。

請求項（抜粋）：

【化1】(化1中、R1はハロゲン原子で置換された低級アルキル基であり、R2は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、低級アルコキシカルボニル基、カルボキシル基、ベンジル基、ベンゾイル基、フェニルチオ基、ナフチル基またはピリジル基であり、R3はフェニル基、低級アルコキシ基で置換されたフェニル基またはビフェニル基である。)で表されるN-チアゾリルスルホンアミド誘導体。

IPC (6件)：

C07D277/52 ,  A61K 31/425 AAG ,  A61K 31/425 ABE ,  A61K 31/425 ABF ,  A61K 31/44 AAH ,  C07D417/04 213