特許

J-GLOBAL ID：200903099181529735

露光方法および露光装置

発明者： 宮崎 聖二 ,  武藤 貴和 ,  横田 宗泰
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-295978
公開番号（公開出願番号）：特開2001-118774
出願日： 1999年10月18日
公開日（公表日）： 2001年04月27日
要約：

【要約】【課題】 基板の移動時間を考慮して露光順序を決定することにより、スループットの向上に寄与する。【解決手段】 パターンを有した複数のマスクを用いて、複数のマスクのパターンを基板上のマスクのそれぞれに対応して設定された露光領域に露光光により順次露光する露光方法において、露光光の光路と露光領域との位置関係に基づいて、複数のマスクの露光順序を決定する。

請求項（抜粋）：

パターンを有した複数のマスクを用いて、前記複数のマスクのパターンを基板上の前記マスクのそれぞれに対応して設定された露光領域に露光光により順次露光する露光方法において、前記露光光の光路と前記露光領域との位置関係に基づいて、前記複数のマスクの露光順序を決定することを特徴とする露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (2件)：

G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 514 B

Fターム (5件)：

5F046AA28 ,  5F046BA04 ,  5F046CB17 ,  5F046CC14 ,  5F046DA30