軟磁性膜およびその製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：上野登
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-056641
公開番号（公開出願番号）：特開2009-212466
出願日： 2008年03月06日
公開日（公表日）： 2009年09月17日
要約：

【課題】高周波をかけた場合でも高い透磁率を有し、比較的厚膜な軟磁性膜を提供すること。そのような軟磁性膜の製造方法を提供すること。【解決手段】基材の少なくとも一方面に、絶縁層により表面被覆された多数の軟磁性粒子が付着・堆積されて形成されている軟磁性膜とする。当該軟磁性膜は、絶縁層により表面被覆された軟磁性粉末を、圧縮気体により加速させて噴射し、基材上に多数の軟磁性粒子を衝突させて付着・堆積させる工程を経れば得ることができる。上記軟磁性粉末の噴射方式は、コールドスプレー法、HVAF法、および、HVOF法から選択される1種または2種以上のメカニカルデポジション方式を好適に採用することができる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基材の少なくとも一方面に、絶縁層により表面被覆された多数の軟磁性粒子が付着・堆積されて形成されていることを特徴とする軟磁性膜。

IPC (3件)：

H01F 1/24 , H01F 41/16 , H01F 27/255

FI (3件)：

H01F1/24 , H01F41/16 , H01F27/24 D

Fターム (7件)：

5E041AA11 , 5E041BB01 , 5E041CA01 , 5E041CA04 , 5E049AA01 , 5E049CB10 , 5E049FC06

引用特許：

出願人引用 (1件)

磁心の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-194039 出願人：新東ブレーター株式会社

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