特許
J-GLOBAL ID：200903099184273464
エチルベンゼンの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
清水 猛 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-016428
公開番号（公開出願番号）：特開平11-199526
出願日： 1998年01月13日
公開日（公表日）： 1999年07月27日
要約：
【要約】【解決手段】 ベンゼン原料とエチレン原料を用いてエチルベンゼンを製造する方法に於いて、1)ゼオライトベータ系固体触媒充填固定床反応器を用い、2)ベンゼン、エチレンを固定床反応器の上部から供給し、3)エチレンの一部を気相状態で触媒固定床に導入し、4)触媒層上部を最低温度にし、下部に向かうに従って、反応熱により連続的に温度上昇させ、下部では未反応ベンゼン等の芳香族化合物を蒸発させて、最高温度に触媒固定床の温度分布を形成し、5)固定床反応器下部から芳香族化合物を気相状態で回収し、同時にエチルベンゼンを液相状態で回収。【効果】 低圧力条件、低ベンゼン/エチレンモル比条件、シンプルな反応装置を用いて極めて高収率、高選択にエチルベンゼンの製造。触媒の活性低下の抑制、気相エチレンによるチャンネリング現象を防ぎ、触媒の摩耗・粉化の抑制して長期間の安定な運転の実現。
請求項（抜粋）：
ベンゼン原料とエチレン原料を用いてエチルベンゼンを製造する方法に於いて、a)ゼオライトベータを含む固体触媒を充填した固定床反応器を用い、b)ベンゼン原料とエチレン原料を固定床反応器の上部から供給し、c)その際に、エチレン原料の少なくとも一部のエチレンが気相状態で存在できる条件で触媒固定床に導入し、d)ベンゼン原料とエチレン原料を導入する触媒層上部を最も低い温度に設定し、下部に向かうに従って反応熱により連続的に温度を上昇させ、さらに下部の領域においては未反応ベンゼンを主成分とする芳香族化合物が蒸発を起こすことにより、最も高い温度で維持されるように触媒固定床の温度分布を形成し、e)固定床反応器下部から未反応ベンゼンを主成分とする芳香族化合物を気相状態で回収し、同時に生成物であるエチルベンゼンを含む芳香族化合物を液相状態で回収することを特徴とする、エチルベンゼンの製造方法。
IPC (5件)：
C07C 15/073
, B01J 29/70
, C07C 2/66
, C07C 7/04
, C07B 61/00 300
C07C 15/073
, B01J 29/70 X
, C07C 2/66
, C07C 7/04
, C07B 61/00 300
