特許
J-GLOBAL ID：200903099185550259
パターン転写方法およびパターン転写装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
酒井 宏明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-063268
公開番号（公開出願番号）：特開2007-242893
出願日： 2006年03月08日
公開日（公表日）： 2007年09月20日
要約：
【課題】被転写基板と転写原版とのとの位置合わせ精度に優れた、位置ずれ分布の極めて小さい高品質のパターン転写方法およびパターン転写装置を提供すること。【解決手段】転写するパターンを形成した転写原版のパターン形成面の転写位置と、前記パターンが転写される被転写基板の被転写面の被転写位置と、の位置合わせを行う工程と、前記パターン形成面と前記被転写面とを当接する工程と、前記位置合わせを行った後に、前記パターン形成面の転写位置と前記被転写面の被転写位置との面内方向における位置ずれを部分的に補正する工程と、を含む。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
転写するパターンを形成した転写原版のパターン形成面の転写位置と、前記パターンが転写される被転写基板の被転写面の被転写位置と、の位置合わせを行う工程と、
前記パターン形成面と前記被転写面とを当接する工程と、
前記位置合わせを行った後に、前記パターン形成面の転写位置と前記被転写面の被転写位置との面内方向における位置ずれを部分的に補正する工程と、
を含むことを特徴とするパターン転写方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (1件)：
引用特許：
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