特許

J-GLOBAL ID：200903099185653961

高純度テトラキスキシレノールの製造方法、該高純度化合物を用いるエポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物及びそれらの製造方法

発明者： 小池 成 ,  飯室 茂 ,  伊藤 瑞男
出願人/特許権者： 三井東圧化学株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-305996
公開番号（公開出願番号）：特開平5-009144
出願日： 1991年11月21日
公開日（公表日）： 1993年01月19日
要約：

【要約】【構成】 本発明により、2分子のビス(3,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニル)メタンを酸化性条件下で脱水素縮合させることを特徴とする1,1,2,2-テトラキス(4-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル)エタン(以下、TKXEという)の製造方法、および、該方法により得られたTKXEをエポキシ化したエポキシ樹脂、該方法により得られたTKXEを硬化剤とするエポキシ樹脂組成物並びにそれらの製造方法が提供される。【効果】 本発明の方法によれば、高純度のTKXEが結晶として得られる。また、本発明のエポキシ樹脂およびエポキシ樹脂組成物は、優れた耐熱性、機械的特性等を有する硬化物を与える。

請求項（抜粋）：

2分子のビス(3,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニル)メタンを酸化性条件下で脱水素縮合させることを特徴とする1,1,2,2-テトラキス(4-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル)エタンの製造方法。

IPC (8件)：

C07C 39/15 ,  B01J 27/10 ,  C07C 37/11 ,  C07D301/28 ,  C07D303/24 ,  C08G 59/06 NHJ ,  C08G 59/62 NJF ,  C07B 61/00 300