特許

J-GLOBAL ID：200903099192768103

転写シート

発明者： 青木 大吾
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 山下 昭彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-292047
公開番号（公開出願番号）：特開2003-100454
出願日： 2001年09月25日
公開日（公表日）： 2003年04月04日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、EL素子の有機EL層を転写法でパターニングする際に、レーザ転写法を用いることなく高精細な転写を可能とする転写シートを提供することを主目的とするものである。【解決手段】 本発明は、基材と、上記基材上に形成され、離型性の異なるパターンを有する離型性変化層と、上記離型変化層上に形成され、熱により被転写体上に溶融転写する有機EL層とを有することを特徴とする転写シートを提供することにより上記課題を解決する。

請求項（抜粋）：

基材と、前記基材上に形成され、離型性の異なるパターンを有する離型性変化層と、前記離型性変化層上に形成され、熱により被転写体上に溶融転写する有機エレクトロルミネッセント層とを有することを特徴とする転写シート。

IPC (5件)：

H05B 33/10 ,  B41M 5/30 ,  B41M 5/40 ,  B44C 1/17 ,  H05B 33/14

FI (7件)：

H05B 33/10 ,  B44C 1/17 K ,  B44C 1/17 L ,  H05B 33/14 A ,  B41M 5/26 F ,  B41M 5/26 J ,  B41M 5/26 H

Fターム (42件)：

2H111AA26 ,  2H111AA33 ,  2H111AA34 ,  2H111AA35 ,  2H111BA03 ,  2H111BA07 ,  2H111BA09 ,  2H111BA13 ,  2H111BA32 ,  2H111BA38 ,  2H111BA53 ,  2H111BA74 ,  2H111BA76 ,  2H111CA26 ,  2H111CA28 ,  3B005EA14 ,  3B005EB01 ,  3B005EB05 ,  3B005EC25 ,  3B005FA02 ,  3B005FA12 ,  3B005FB26 ,  3B005FB61 ,  3B005FE22 ,  3B005FE23 ,  3B005FE31 ,  3B005FG10 ,  3B005GA02 ,  3B005GA05 ,  3B005GA09 ,  3B005GB01 ,  3B005GB03 ,  3K007AB04 ,  3K007AB18 ,  3K007CA01 ,  3K007CA05 ,  3K007CB01 ,  3K007DA00 ,  3K007DB03 ,  3K007EB00 ,  3K007FA00 ,  3K007FA01