特許

J-GLOBAL ID：200903099193049178

パターン染色物の製造方法

発明者： 陶山 寛志 ,  角岡 正弘
出願人/特許権者： 日本写真印刷株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-191168
公開番号（公開出願番号）：特開平8-035184
出願日： 1994年07月20日
公開日（公表日）： 1996年02月06日
要約：

【要約】【目的】 多くの色を染色する場合においても、高解像度を保ちながら工程数が少ないパターン染色物の製造方法を得る。【構成】 光照射によりアミノ基が生成する官能基を有する高分子物質を有効成分として含有する薄膜に部分的な光照射をして部分的にアミノ基を生成させ、次いで、発色団基を有するとともにアミノ基と共有結合する化合物を前記薄膜中のアミノ基と反応させることにより、光照射部のみを選択的に染色する。

請求項（抜粋）：

光照射によりアミノ基が生成する官能基を有する高分子物質を有効成分として含有する薄膜に部分的な光照射をして部分的にアミノ基を生成させ、次いで、発色団基を有するとともにアミノ基と共有結合する化合物を前記薄膜中のアミノ基と反応させることにより、光照射部のみを選択的に染色することを特徴とするパターン染色物の製造方法。

IPC (5件)：

D06P 5/00 122 ,  D06P 5/00 123 ,  D06P 5/20 ,  G02B 5/20 101 ,  G03C 1/73