真空処理装置用素材及びその製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：浅井章弘 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-197205
公開番号（公開出願番号）：特開平7-176524
出願日： 1994年07月29日
公開日（公表日）： 1995年07月14日
要約：

【要約】【目的】硬度が高くてガス放出量の少ない真空処理装置用素材を提供する。【構成】純粋アルミニウムを含むアルミニウム合金により真空処理装置用基材24を形成し、この表面に形成されている自然酸化膜72をエッチング処理により除去する。その後、この表面に真空雰囲気中にて酸化アルミニウムを堆積する。これにより、緻密で且つガス放出量の少ない酸化アルミニウム被膜76を形成することができる。

請求項（抜粋）：

純粋アルミニウムを含むアルミニウム合金により真空処理装置用基材を形成し、この真空処理装置用基材の表面に形成されている自然酸化膜をエッチング処理により除去し、その後、前記エッチング処理がなされた真空処理装置用基材の表面に真空雰囲気中にて酸化アルミニウムを堆積するように構成したことを特徴とする真空処理装置用基材の製造方法。

IPC (5件)：

H01L 21/3065 , H01L 21/203 , H01L 21/205 , H01L 21/314 , H01L 21/316

FI (2件)：

H01L 21/302 N , H01L 21/302 G

引用特許：

審査官引用 (8件)

特開平4-301062
特開平4-239130
特開昭56-156777

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