特許

J-GLOBAL ID：200903099200027118

チオアセタール化合物の製造方法およびデンドリマー、デンドロンの製造方法

発明者： 中村 剛希
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 飯田 敏三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-096080
公開番号（公開出願番号）：特開2005-281172
出願日： 2004年03月29日
公開日（公表日）： 2005年10月13日
要約：

【課題】 目的のチオセタール化合物を副生物の生成を抑えて製造し、精製に対する負担を著しく軽減し、この製造工程を利用することによって高分子化合物のデンドロン又はデンドリマーを効率的に製造する。【解決手段】 チオアセタール構造を分子内に有するチオール化合物を触媒の存在下、カルボニル化合物またはその等価体と反応させてチオアセタール構造を形成するに当たり、エーテル類、エステル類、アミド類、スルホキシド類、アルコール類、ニトリル類またはスルホン類から選ばれる反応溶媒中で行うことを特徴とするチオアセタール化合物の製造方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

チオアセタール構造を分子内に有するチオール化合物を触媒の存在下、カルボニル化合物またはその等価体と反応させてチオアセタール構造を形成するに当たり、エーテル類、エステル類、アミド類、スルホキシド類、アルコール類、ニトリル類およびスルホン類から選ばれる反応溶媒中で形成させることを特徴とするチオアセタール化合物の製造方法。

IPC (1件)：

C07D213/70

FI (1件)：

C07D213/70

Fターム (10件)：

4C055AA01 ,  4C055BA02 ,  4C055BA46 ,  4C055BB09 ,  4C055CA02 ,  4C055CA51 ,  4C055DA01 ,  4H039CA99 ,  4H039CG10 ,  4H039CL19