特許
J-GLOBAL ID:200903099203443066
欠陥検査方法及び装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
岩橋 文雄
, 坂口 智康
, 内藤 浩樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-200970
公開番号(公開出願番号):特開2004-045125
出願日: 2002年07月10日
公開日(公表日): 2004年02月12日
要約:
【課題】検査対象物の輝度ばらつきや輝度差のばらつきを低減し、より精度の高い検査を行うことが可能な欠陥検査方法及び装置を提供すること。【解決手段】検査対象物を所望の領域に分割し、前記領域に含まれる全ての画素の輝度Ixyを求めた後、前記全ての画素の輝度Ixyに対する標準偏差と平均値を計算し、前記輝度Ixyと予め設定された良品画像の輝度JxyからコントラストP=(Ixy-Jxy)2を計算し、前記検査対象物の領域内の輝度の標準偏差をQとしたとき、P>(Q×a)(aは任意の定数)を満足し、かつ、前記領域の面積S>(Q×b)(bは任意の定数)を満足するものを欠陥とすることで解決できる。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
検査対象物を撮像することで画像データを画像メモリに蓄積し、前記画像データを処理することで、前記検査対象物の表面の欠陥を検出する欠陥検査方法であって、
前記検査対象物を所望の領域に分割し、前記領域に含まれる全ての画素の輝度Ixyを求めた後、前記全ての画素の輝度Ixyに対する標準偏差と平均値を計算し、前記輝度Ixyと予め設定された良品画像の輝度JxyからコントラストP=(Ixy-Jxy)2を計算し、前記検査対象物の領域内の輝度の標準偏差をQとしたとき、P>(Q×a)(aは任意の定数)を満足し、かつ、前記領域の面積S>(Q×b)(bは任意の定数)を満足するものを欠陥とすること
を特徴とする欠陥検査方法。
IPC (4件):
G01N21/956
, G06T1/00
, G06T7/00
, H01L21/66
FI (4件):
G01N21/956 Z
, G06T1/00 305A
, G06T7/00 300E
, H01L21/66 J
Fターム (32件):
2G051AA90
, 2G051AB02
, 2G051AC21
, 2G051CA04
, 2G051CB01
, 2G051EA11
, 2G051EA12
, 2G051EA16
, 2G051EB01
, 2G051EB02
, 2G051EC03
, 2G051ED08
, 4M106AA01
, 4M106CA39
, 4M106DB21
, 4M106DC04
, 4M106DJ17
, 4M106DJ20
, 4M106DJ21
, 5B057AA03
, 5B057CA08
, 5B057CA12
, 5B057CA16
, 5B057CE09
, 5B057DA03
, 5B057DC33
, 5L096AA06
, 5L096BA03
, 5L096FA32
, 5L096FA33
, 5L096GA08
, 5L096HA07
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