特許

J-GLOBAL ID：200903099232970962

酸化チタン薄膜の製法並びに該薄膜を用いた光化学反応器の製法

発明者： 土井 良太 ,  森 利克 ,  飛田 紘 ,  宮寺 博
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  財団法人地球環境産業技術研究機構
代理人 (1件)： 高橋 明夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-219992
公開番号（公開出願番号）：特開平5-059562
出願日： 1991年08月30日
公開日（公表日）： 1993年03月09日
要約：

【要約】【構成】 チタン有機化合物、水、酸およびアルコールを含むチタンゾル(但し、チタン濃度が0.1〜2mol/l、水/チタンのモル比が0.1〜10、水/酸の当量比が2〜40である。)を基板面に塗布、焼成を繰り返すことにより得られる酸化チタン薄膜の1回の塗布,焼成により形成する膜厚を0.05〜0.1μmとすることを特徴とする酸化チタン薄膜の製法。【効果】 光エネルギーの吸収効率がよい酸化チタン薄膜が得られるため変換効率のよい光化学反応器を提供することができる。

請求項（抜粋）：

チタン有機化合物、水、酸およびアルコールを含むチタンゾル(但し、チタン濃度が0.1〜2mol/l、水/チタンのモル比が0.1〜10、水/酸の当量比が2〜40である。)を基板面に塗布,焼成を繰り返すことにより得られる酸化チタン薄膜の1回の塗布,焼成により形成する膜厚を0.05〜0.1μmとすることを特徴とする酸化チタン薄膜の製法。

IPC (4件)：

C23C 18/12 ,  B01J 35/02 ,  C01G 23/04 ,  H01M 14/00

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭56-094651
  
• 特開平2-047268