特許
J-GLOBAL ID：200903099238174262
X線トポグラフィック装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
横川 邦明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-177742
公開番号（公開出願番号）：特開平11-014563
出願日： 1997年06月18日
公開日（公表日）： 1999年01月22日
要約：
【要約】【課題】 試料を走査移動させる方式のX線トポグラフィック装置において、試料以外の物体にX線が当たることを防止して、得られる回折X線像が散乱線等によって悪影響を受けるのを防止する。【解決手段】 X線を発散するX線源Fと、試料S及びX線フィルムを一体的に走査移動させる搬送装置14と、X線源Fから発散して試料Sへ入射するX線に関して試料Sの走査移動方向Aと直角方向の高さを制限する高さ制限スリット2とを有するX線トポグラフィック装置である。高さ制限スリット2の高さ寸法Hは、試料Sの走査移動に対応して変化する。X線照射領域Eが試料Sの最大径部分にあるときスリット高さHは最も大きく、X線照射領域Eに試料Sの端部が到来したときそのスリット高さHが最も小さくなる。
請求項（抜粋）：
X線を発散するX線源と、試料及びX線検出手段を一体的に走査移動させる試料移動手段と、X線源から発散して試料へ入射するX線に関して試料の走査移動方向と直角方向の高さを制限する高さ制限スリットとを有するX線トポグラフィック装置において、上記高さ制限スリットの高さ寸法は、試料の走査移動に対応して変化することを特徴とするX線トポグラフィック装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01N 23/203
, G21K 1/04 R
