特許

J-GLOBAL ID：200903099243584550

光磁気記録媒体の製造方法

発明者： 大野 秀樹 ,  高橋 栄一 ,  西澤 恵一郎
出願人/特許権者： 東ソー株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-157651
公開番号（公開出願番号）：特開2000-348401
出願日： 1999年06月04日
公開日（公表日）： 2000年12月15日
要約：

【要約】【課題】 SILヘッドと記録媒体のクラッシュを起こさず、耐久性、信頼性に優れた近接場光磁気記録媒体を提供する。【解決手段】 基板上に少なくとも反射層、記録層および誘電体層をこの順に積層してなる光磁気記録媒体を回転させた状態で、その表面に研磨テープを接触させることにより、光磁気記録媒体表面の突起状表面欠陥を除去する。

請求項（抜粋）：

基板上に少なくとも反射層、記録層および誘電体層をこの順に積層してなる光磁気記録媒体の製造方法において、前記光磁気記録媒体を回転させた状態で、その表面に研磨テープを接触させることにより、光磁気記録媒体表面の突起状表面欠陥を除去する工程を有することを特徴とする光磁気記録媒体の製造方法。

IPC (2件)：

G11B 11/10 541 ,  G11B 11/10 506

FI (2件)：

G11B 11/10 541 G ,  G11B 11/10 506 Z

Fターム (4件)：

5D075EE03 ,  5D075FH02 ,  5D075GG16 ,  5D075GG20