特許

J-GLOBAL ID：200903099244658697

光ファイバ母材のフッ酸浸漬処理装置

発明者： 桑原 正英 ,  石田 禎則 ,  香村 幸夫
出願人/特許権者： 古河電気工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-222412
公開番号（公開出願番号）：特開平10-067530
出願日： 1996年08月23日
公開日（公表日）： 1998年03月10日
要約：

【要約】【課題】 近年大型化している光ファイバ母材であっても、光ファイバ母材のフッ酸浸漬処理装置に小型化の工夫を凝らして光ファイバ母材の搬送距離を低減し、フッ酸浸漬処理、具体的にはエッチングまたは清浄化作業を容易にすることである。【解決手段】 光ファイバ母材のフッ酸浸漬処理装置を、光ファイバ母材を該光ファイバ母材の径方向に入出することが可能で該光ファイバ母材をフッ酸で浸漬処理する縦型浸漬用容器と、該光ファイバ母材を該光ファイバ母材の径方向から該浸漬用容器内に搬送あるいは該浸漬用容器内から搬出する手段とを具備する構成としたことにより、浸漬処理装置の高さが著しく低減され、かつ光ファイバ母材の搬送距離が短くなって光ファイバ母材を容易にフッ酸浸漬処理装置に着脱することが可能となり、生産効率が大幅に改善できる。

請求項（抜粋）：

光ファイバ母材を該光ファイバ母材の径方向に入出することが可能で、かつ該光ファイバ母材をフッ酸浸漬処理する縦型浸漬用容器と、該光ファバ母材を該光ファイバ母材の径方向から該浸漬用容器内に搬送あるいは該浸漬用容器内から搬出する手段とを具備することを特徴とする光ファイバ母材のフッ酸浸漬処理装置。

IPC (3件)：

C03B 37/012 ,  C03C 15/00 ,  G02B 6/00 356

FI (3件)：

C03B 37/012 Z ,  C03C 15/00 Z ,  G02B 6/00 356 A