特許
J-GLOBAL ID:200903099266706083
画像表示デバイス用基板
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
世良 和信 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-061777
公開番号(公開出願番号):特開2000-259095
出願日: 1999年03月09日
公開日(公表日): 2000年09月22日
要約:
【要約】【課題】 製造プロセス過程における、高温による不具合や薬剤による不具合の低減を図ることのできる品質性に優れた画像表示デバイス用基板を提供する。【解決手段】 基材の上に、非加熱スパッタ成膜法により形成された非結晶性インジウムスズ膜を積層して、レジストの形成とパタニングを行い、露出する非結晶性インジウムスズ膜上に、ニッケル・リン合金メッキ層、または、パラジウム・リン合金メッキ層を積層後、レジスト除去プロセスを行って、露出する非結晶性インジウムスズ膜を蓚酸にてエッチング除去する。
請求項(抜粋):
非加熱スパッタ成膜法により形成された酸化インジウムスズ膜と、湿式のメッキ法によって、前記酸化インジウムスズ膜上に積層形成された導電パターンと、を備えることを特徴とする画像表示デバイス用基板。
IPC (2件):
G09F 9/30 313
, H05K 1/02
FI (2件):
G09F 9/30 313 Z
, H05K 1/02 J
Fターム (11件):
5C094AA31
, 5C094AA33
, 5C094DA13
, 5C094EB02
, 5C094FB12
, 5C094GB01
, 5E338AA13
, 5E338CC01
, 5E338CD03
, 5E338EE32
, 5E338EE33
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