特許
J-GLOBAL ID：200903099274571235
原料のレーザー融解を用いる高速製造システム
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
丹羽 宏之
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-523607
公開番号（公開出願番号）：特表2001-504549
出願日： 1996年11月22日
公開日（公表日）： 2001年04月03日
要約：
【要約】一つの製品構築システムが製品を保持し移動させるためにX-Y-Z方向で可動であるステージ(13)を使用する。固定レーザー(1)は製品上のスポットに焦点を合わせ一方材料の条片(7)は回転操作架台(11)上で2個の源(6,32)から形成方向に接線で送り込まれる。レーザーは条片を連続的にあるいは周期的に製品に溶接しかつ融解する。相対的移動は条片を望ましい製品形状に曲げ、またレーザーは条片を切断し交互に並ぶ材料層を形成するために新しい条片を溶接する。並列条片は突き合わせ溶接され、製品コアは外表面から別個に形成される。回転操作架台のミル(30)は側面および上部面を平滑にするためにミルエンド工具(31)を層と接触させる。セラミック条片は加熱送達されかつ固化され、部品が構築されるように焼結縮みを補償される。
請求項（抜粋）：
レーザーなどのエネルギー源で、付着およびもしくは溶接することにより各種の縦断面図を持つ金属および非金属材料の薄層原料を既存の層に融解し、一方原料断面を事実上もとの形状に保持することを含む一つの製品構築方法。
IPC (3件)：
B22F 3/105
, B23K 26/00 310
, B29C 67/00
B22F 3/105
, B23K 26/00 310 B
, B29C 67/00
