特許

J-GLOBAL ID：200903099276153325

放電プラズマ処理装置及びそれを用いた放電プラズマ処理方法

発明者： 中武 純夫
出願人/特許権者： 積水化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-357855
公開番号（公開出願番号）：特開2003-154256
出願日： 2001年11月22日
公開日（公表日）： 2003年05月27日
要約：

【要約】【課題】 電極に接触させることなく被処理基材の両面を安定して放電プラズマ処理を行うことができるロール-ロール電極を有する放電プラズマ処理装置及びそれを用いた放電プラズマ処理方法の提供。【解決手段】 表面が固体誘電体で被覆された一対のロール電極間に電界を印加し、電極間に処理ガスを導入して発生するグロー放電プラズマで、電極間に搬送される被処理基材の両面を処理する装置であって、前記ロール電極の両端付近に被処理基材の両端を挟み込むリングを設け、電極を回転させて被処理基材を搬送させながら処理することを特徴とする放電プラズマ処理装置。

請求項（抜粋）：

表面が固体誘電体で被覆された一対のロール電極間に電界を印加し、電極間に処理ガスを導入して発生するグロー放電プラズマで、電極間に搬送される被処理基材の両面を処理する装置であって、前記ロール電極の両端付近に被処理基材の両端を挟み込むリングを設け、電極を回転させて被処理基材を搬送させながら処理することを特徴とする放電プラズマ処理装置。

IPC (3件)：

B01J 19/08 ,  C23C 16/50 ,  H05H 1/46

FI (4件)：

B01J 19/08 H ,  C23C 16/50 ,  H05H 1/46 A ,  H05H 1/46 M

Fターム (27件)：

4G075AA24 ,  4G075AA29 ,  4G075AA30 ,  4G075BA05 ,  4G075BB10 ,  4G075BC04 ,  4G075BC06 ,  4G075BC10 ,  4G075CA16 ,  4G075DA02 ,  4G075DA16 ,  4G075EB46 ,  4G075EC21 ,  4G075ED04 ,  4G075FA01 ,  4G075FC15 ,  4K030AA02 ,  4K030AA05 ,  4K030AA11 ,  4K030BA44 ,  4K030BA45 ,  4K030BA46 ,  4K030FA03 ,  4K030GA14 ,  4K030JA11 ,  4K030JA14 ,  4K030KA16