特許
J-GLOBAL ID：200903099278782494
真空容器
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-047365
公開番号（公開出願番号）：特開平10-228880
出願日： 1997年02月14日
公開日（公表日）： 1998年08月25日
要約：
【要約】【課題】 均一に加熱でき、かつ変形もなく、短時間でクリーンな超高真空が得られる真空容器を得る。【解決手段】 本発明の真空容器3は真空側の内表面および外気側の表面がアルマイト処理されたアルミニウムまたはアルミニウム合金からなり、内表面のアルマイト皮膜33に存在する微細孔中に、負の電圧を印加すると電界放射によって電子を放出する陰電極が設けられており、かつ陰電極に高電圧を印加できる高電圧端子4を備えている。また、真空側のアルマイト皮膜33の表面にアルミニウムなど反射率の高い金属皮膜を形成してもよい。高電圧端子4に高電圧を印加すると微細孔内の陰電極である電界放射材料から電子が放出され、電子が放出されると大電流が流れるので真空容器の温度がジュール熱で急速に上昇し、短時間でクリーンな超高真空が得られる
請求項（抜粋）：
真空側の内表面および外気側の表面がアルマイト処理されたアルミニウムまたはアルミニウム合金からなる真空容器において、前記内表面のアルマイト皮膜中に存在する微細孔中に、負の電圧を印加すると電界放射によって電子を放出する陰電極が設けられており、かつ前記陰電極に高電圧を印加できる高電圧端子を備えたことを特徴とする真空容器。
IPC (4件)：
H01J 41/18
, B01J 3/03
, F16J 12/00
, H05H 7/14
H01J 41/18
, B01J 3/03 J
, F16J 12/00 B
, H05H 7/14
