特許

J-GLOBAL ID：200903099280612580

新規なエステル化合物

発明者： 原田 裕次 ,  畠山 潤 ,  河合 義夫 ,  笹子 勝 ,  遠藤 政孝 ,  岸村 眞治 ,  前田 一彦 ,  大谷 充孝 ,  小森谷 治彦
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社 ,  松下電器産業株式会社 ,  セントラル硝子株式会社
代理人 (1件)： 小島 隆司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-362667
公開番号（公開出願番号）：特開2003-160539
出願日： 2001年11月28日
公開日（公表日）： 2003年06月03日
要約：

【要約】【解決手段】 下記一般式(1)で示されるエステル化合物。【化1】(式中、R1はフッ素原子又は少なくとも1個以上のフッ素原子を有する炭素数1〜15の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基である。R2は炭素数1〜15の直鎖状、分岐状又は環状の酸素原子が介在してもよいアルキル基を示す。)【効果】 本発明のエステル化合物をモノマーとして製造したポリマーをベース樹脂として用いたレジスト材料は、透明性に優れると共に、酸脱離性・ポリマーの基板密着性にも優れているため、電子線や遠紫外線、特にF2レーザーによる微細加工に有用である。

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で示されるエステル化合物。【化1】(式中、R1はフッ素原子又は少なくとも1個以上のフッ素原子を有する炭素数1〜15の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基である。R2は炭素数1〜15の直鎖状、分岐状又は環状の酸素原子が介在してもよいアルキル基を示す。)

Fターム (6件)：

4H006AA01 ,  4H006AB46 ,  4H006BM10 ,  4H006BM71 ,  4H006BP10 ,  4H006KA05

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭57-008541
  
• ポジ型感放射線性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-004306   出願人：東レ株式会社
• 特開昭57-008541
  
• 特開昭57-008541