特許
J-GLOBAL ID：200903099288250130
微小光学素子の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
寒川 誠一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-330105
公開番号（公開出願番号）：特開平7-191209
出願日： 1993年12月27日
公開日（公表日）： 1995年07月28日
要約：
【要約】【目的】 微小光学素子の製造方法に関し、製造工程数が少なく、低コストで再現性よく微小光学素子を製造する方法を提供することを目的とする。【構成】 基板1上にレジスト層4を形成し、複数のマスク5a・5bを使用して順次露光量を変化させて多重露光をなした後現像して階段形状をもって近似された微小光学素子の原型6を形成し、エッチングをなしてこの微小光学素子の原型6を基板1に転写して微小光学素子を製造する。
請求項（抜粋）：
基板(1)上にレジスト層(4)を形成し、複数のマスク(5a・5b)を使用して順次露光量を変化させて多重露光をなした後現像し、階段形状をもって近似された微小光学素子の原型(6)を形成し、エッチングをなして前記微小光学素子の原型(6)を前記基板(1)に転写することを特徴とする微小光学素子の製造方法。
IPC (2件)：
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