特許
J-GLOBAL ID:200903099299396853

フォトレジスト現像装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 京本 直樹 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-326930
公開番号(公開出願番号):特開平10-172880
出願日: 1996年12月06日
公開日(公表日): 1998年06月26日
要約:
【要約】【課題】フォトレジスト現像装置において、ガラス基板15の裏面に付着する現像液残りを短時間で除去する。【解決手段】ガラス基板15の下にガラス基板15の外側に向けて傾けて洗浄液を噴射する洗浄ノズル2と、この洗浄ノズル2より回転軸11側に配置されるとともに洗浄ノズル2の傾斜角が小さく水平に寄る角度で乾燥ガスを噴射するガス噴出ノズル3とを設け、現像後にガラス基板を回転させ洗浄ノズル2とガス噴出ノズル3から洗浄液と乾燥ガスとを同時にガラス基板の裏面に噴射し除去する。
請求項(抜粋):
表面にフォトレジストが塗布されたガラス基板を回転可能に保持する基板保持手段と、上記基板保持手段を回転駆動する駆動手段と、前記ガラス基板保持手段に保持されたガラス基板の該フォトレジスト面に現像液を滴下するノズルとを備えるフォトレジスト現像装置において、前記ガラス基板に前記現像液が滴下され該現像液が盛られて潜像が現像された後に回転する該ガラス基板の回転中心から最も近い辺の裏面の該辺に近い部分に洗浄液が衝突するように噴出口を向けかつ垂直よりやや水平に傾けに所定の角度に傾け該洗浄液を噴射する洗浄ノズルと、この洗浄ノズルの該洗浄液の噴射と同時に乾燥ガスを噴射するとともに前記洗浄ノズルの傾き角度より水平に近い角度でガス噴射口を向けかつ前記洗浄ノズルより内側に設けられているガス噴出ノズルを備えることを特徴とするフォトレジスト現像装置。
IPC (2件):
H01L 21/027 ,  H01L 21/304 351
FI (2件):
H01L 21/30 569 C ,  H01L 21/304 351 S

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