特許
J-GLOBAL ID：200903099303635728
シリカ系被膜の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-099647
公開番号（公開出願番号）：特開平7-196342
出願日： 1994年05月13日
公開日（公表日）： 1995年08月01日
要約：
【要約】【目的】低温で膜形成でき、大面積の膜形成が容易で、一度に大量の膜付けが行え、任意形状の表面に膜形成可能な、さらに、製造装置が簡便なシリカ被膜の製法を提供する。【構成】メチルトリメトキシランの水溶液にフッ化アンモニウムを添加して加水分解させて得た、メチル基を有するケイ酸水溶液に、ソーダライムガラスを浸漬、保持することにより、溶液中でガラス表面にメチル基を含むシリカ被膜を析出、形成させる。さらにこの被膜を焼成することにより、メチル基を除去した、シリカ被膜を製造する。
請求項（抜粋）：
炭化水素、弗素および水素の中から選ばれる少なくとも1種以上の疎水性官能基を有するケイ酸を含む水系溶液に、基材を浸漬または接触させ保持することにより、溶液中で基材表面に該疎水性官能基を含むシリカを膜として析出させ、被膜を形成することを特徴とする、シリカ系被膜の製造方法。
IPC (5件)：
C03C 17/30
, C01B 33/12
, C03C 17/27
, C08G 77/04 NUB
, C09D183/04 PMS
